讲座题目：集成电路与光刻机
主 讲 人：王向朝 教授
讲座时间：2024年7月18日（周四）下午14:30-15:30时
讲座地点：钱伟长楼201会议室
欢迎有兴趣的师生前来聆听！
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2024年7月17日
讲座内容简介：
光刻机是集成电路制造中最为核心的高端装备, 在 60 余年的发展历程中不断挑战人类超精密制造装备的极限, 推动着摩尔定律的持续向前和信息时代的飞速发展, 对于科技进步、国民经济、国家安全具有极为重要的战略意义。本次讲座会介绍目前最先进的光刻机技术，并展望未来光刻机的发展趋势和未来方向。
主讲人简介：
王向朝，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室首席科学家，光电科学与工程学院教授;中国科学院上海光学精密机械研究所研究员。曾任国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(02专项)总体专家组成员，光刻机工程指挥部专家。作为项目负责人先后承担并完成20余项国家与省部级科研任务。在高端光刻机技术、超高精度光学测量技术等领域取得系列科研成果，多项成果达到国际先进水平，取得重大经济效益。获国际与国内授权发明专利180余项，国内外发表光学与光刻领域学术论文560余篇，出版《光刻机像质检测技术》等学术著作3部，培养博士研究生60余名(含我国高端光刻机整机技术领域第一批博士研究生)。
